在光伏、半導體等高新技術產業飛速發展的當下，硅材料作為核心基礎材料，其生產工藝的穩定性與產品質量的精準度直接決定下游產業的發展上限。從硅料提純到硅片制造，每一個環節都對測量與控制提出嚴苛要求。中核儀表憑借深耕自動化儀表領域的技術積淀，針對硅材料生產全流程推出定制化解決方案，以可靠性能攻克工藝難點，為硅材料高質量生產保駕護航。
硅料提純環節——CN216導波雷達物位計，破解硅粉料倉測控難題
多晶硅制備是硅材料生產的起點，而硅粉料倉的穩定運行是保障后續工藝連續的關鍵。硅粉質地堅硬，進料時對測量裝置的沖刷力極強，同時生產過程中常伴隨氫氣參與，形成“粉塵+易燃易爆氣體”的雙重復雜工況，普通料位計易出現測量偏差、設備損壞甚至安全隱患。
中核儀表CN216型導波雷達物位計，成為多晶硅產線料位測控的“核心裝備”。該型號采用脈沖工作方式，發射功率極低，配備高強度測量探桿，能有效抵御硅粉長期進料時的沖刷磨損，避免因物料沖擊導致的測量部件損壞。同時，CN216型具備多種過程連接方式及探測組件型式，可靈活適配低壓、高溫高壓等不同工況的硅粉料——無論是常規低壓料倉的日常料位監測，還是高溫高壓環境下的精準計量，均能穩定發揮性能。更關鍵的是，CN216型雷達物位計嚴格符合粉塵與氣體雙重防爆標準，從設備本質安全層面杜絕生產風險，實時反饋料倉內硅粉存量，為硅料進料節奏把控、配料比例精準控制提供可靠數據支撐，徹底避免因料位失控導致的生產中斷或原料浪費。
硅片制造環節——三大儀表協同，守護工藝穩定與水質安全
硅片切割是硅材料加工的核心工序，此環節涉及切削液調配、用水凈化、流體計量等關鍵節點，任何一個環節的參數偏差都可能影響硅片平整度、表面質量，進而降低成品率。中核儀表通過“pH計+電導率儀+渦輪流量計”的組合方案，實現對硅片制造環節的全方位測控。
01、工業pH計：把控切削液酸堿平衡
硅片切割需使用大量切削液，其酸堿度（pH值）直接影響切割效率與硅片表面質量——pH值過高易導致硅片氧化，過低則會腐蝕切割設備。中核儀表工業pH計采用先進電極構造，具備優異的耐酸堿性能，可在切削液調配過程中實時精準測定pH數值，測量誤差控制在±0.02pH以內。即使在長期接觸切削液中的研磨顆粒、化學添加劑等復雜環境下，仍能保持穩定運行，確保切削液始終處于工藝要求的最佳酸堿區間，減少因切削液變質導致的硅片報廢與設備損耗。
某專注于硅片制造的企在硅片切割工藝中，對切削液的pH值控制要求極高。此前，由于pH值測量不準確，導致硅片表面出現氧化和腐蝕問題，產品次品率一度高達10%。采用中核儀表的工業pH計后，精準的pH值測定使切削液始終處于最佳酸堿區間。
02、電導率儀：嚴守用水純度底線
硅材料加工對用水純度要求極高，無論是硅片清洗環節的純水，還是反應過程中的工藝用水，一旦水中離子濃度超標，會直接影響硅材料的純度與性能。中核儀表CN12系列電導率儀搭載高精度測量模塊與自動溫度補償機制，能實時捕捉水中離子濃度變化，將電導率測量精度控制在±0.5%以內。當水質導電率出現異常時，儀表會立即觸發預警信號，提醒運維人員及時排查水處理系統故障，確保生產全程用水純度符合標準，從源頭避免因水質問題導致的硅材料性能劣化。
03、渦輪流量計：優化水資源循環利用
在硅片生產過程中，經過凈化處理的循環回水與補充至調配水箱的純水，需要精準計量以實現水資源高效利用。中核儀表CN351渦輪流量計專為潔凈流體設計，適用于不含固體雜質、無腐蝕性的循環回水與純水測量場景。儀表不僅能現場直觀顯示實時流量數據，還可輸出標準電流信號實現遠程傳輸，方便企業對水資源消耗進行數字化管理。通過精準計量循環水回收率與純水補充量，幫助企業優化用水方案，降低新鮮水消耗，每年可減少水資源成本支出10%-15%，同時減少廢水排放，實現綠色生產。
某硅片生產企業一直致力于節能減排和降低生產成本。在水資源循環利用方面，中核儀表的渦輪流量計發揮了重要作用。通過精準計量循環水回收率與純水補充量，企業能夠優化用水方案。企業節水項目負責人介紹：“使用渦輪流量計后，我們清晰掌握了水資源的使用情況，合理調整了循環水和純水的使用比例，新鮮水消耗減少了12%，每年節約水資源成本約80萬元，同時廢水排放也相應減少，實現了經濟效益和環境效益的雙贏?！?br />
從硅料提純的料位監控，到硅片制造的流體測控，中核儀表始終以“精準、可靠、安全”為核心，為硅材料生產全流程提供定制化測控解決方案。未來，中核儀表將繼續聚焦硅材料產業發展需求，持續迭代產品技術，以更先進的儀表設備與更完善的服務體系，助力硅材料企業提升生產效率、保障產品質量，為光伏與半導體產業的高質量發展注入強勁動力。
